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華為最新投向光刻機(jī) 一圖看懂國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈名單

時(shí)間:2021-06-07 10:52:54
  • 來源:財(cái)聯(lián)社
  • 作者:財(cái)聯(lián)社
  • 編輯:liyunfei

6月7日訊,在華為重磅發(fā)布HarmonyOS 2(鴻蒙操作系統(tǒng))的當(dāng)天,天眼查顯示,華為旗下的哈勃投資公司開始投資光刻機(jī)領(lǐng)域了,入股了由中科院微電子所控股的北京科益虹源公司。

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公開信息顯示,北京科益虹源光電技術(shù)公司的控股股東是中科院微電子所,持股26.6%,主要業(yè)務(wù)就是光刻機(jī)中的三大核心技術(shù)之一的光源系統(tǒng),是國內(nèi)第一、全球第三的193nm ArF準(zhǔn)分子激光器企業(yè)。

光刻膠板塊最近幾日表現(xiàn)比較強(qiáng)勢(shì),近兩周累計(jì)漲幅接近15%。

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方正證券指出,光刻機(jī)作為前道工藝七大設(shè)備之首(光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備、量測(cè)設(shè)備、清洗機(jī)、離子注入機(jī)、其他設(shè)備),價(jià)值含量極大,在制造設(shè)備投資額中單項(xiàng)占比高達(dá)23%,技術(shù)要求極高,涉及精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、高精度環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。光刻機(jī)是人類文明的智慧結(jié)晶,被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。

方正證券認(rèn)為,目前全球前道光刻機(jī)被ASML、尼康、佳能完全壟斷 ,CR3高達(dá)99%。在當(dāng)前局勢(shì)下,實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的國產(chǎn)替代勢(shì)在必行,具有重大戰(zhàn)略意義。在02專項(xiàng)光刻機(jī)項(xiàng)目中,設(shè)定于2020年12月驗(yàn)收193納米ArF浸沒式DUV光刻機(jī),其制程工藝為28納米??紤]到此項(xiàng)目作為十三五目標(biāo),未來具有較大的明確性,結(jié)合 28nm作為當(dāng)前關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點(diǎn)的性能和技術(shù)優(yōu)勢(shì),光刻機(jī)國產(chǎn)替代將迎來新的曙光。

方正證券陳杭建議關(guān)注光刻產(chǎn)業(yè)鏈,一是光刻機(jī)核心組件:負(fù)責(zé)整體集成的上海微電子、負(fù)責(zé)光源系統(tǒng)的科益虹源,負(fù)責(zé)物鏡系統(tǒng)的國望光學(xué),負(fù)責(zé)曝光光學(xué)系統(tǒng)的國科精密,負(fù)責(zé)雙工作臺(tái)的華卓精科,負(fù)責(zé)浸沒系統(tǒng)的啟爾機(jī)電;二是光刻配套設(shè)施:包括光刻膠,光刻氣體,光掩模版,光刻機(jī)缺陷檢測(cè)設(shè)備,涂膠顯影設(shè)備等。

方正證券梳理光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈如下圖:

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